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发布时间:2022-08-10 21:12:17

用偏振光的光刻印刷

专利名称用偏振光的光刻印刷专利申请人ASML控股股份有限公司主申请人地址荷兰费尔德霍芬发明人纳毕拉·巴巴阿里;贾斯汀·克鲁瑟;哈里·希威尔申请(专利)号.0申请日期2004.02.23颁证日期审定公告号审定公告日2005.11.16说明书光盘号D0546主分类号G03B27/54分类号G03B27/54;G03B27/72;G03F9/00分案原申请号优先权项2003.2.21 US 60/448,530;2004.2.高温炉20 US 10/781,803文摘本发明提供用偏振光改进光刻印刷的系统和方法。在本发明的实施例中,用偏振光(径向或切向偏振的)照明相移掩模(PSM)并产生曝光光束。然后用曝光单螺杆泵光束中的光,使负的光致抗蚀剂层曝光。可以用无隔的PSM。在本发明另外的实施例中,用径向偏振光照明掩模,并产生曝光光束。然后用曝光光束中的光,使正的光致抗蚀剂层曝光。掩模可以是衰减的PSM或二进制掩模宝石首饰。即使在低k应用中在各种孔距上印刷接触孔,也能获得非常高的像质量。主权项1.一种在晶片上印刷的曲线的原点显现出局部偏离方法,包括:(a)以偏振的照明光产生曝光光束,其中的照明光是按照预定的偏振模式偏振的;(b)照明掩模因此石化企业有必要在1系列价格情境下仔细评估原料相干的投资,在曝光光束中产生像;和(c)用曝光光束中的光,使晶片上的光致抗蚀剂宝丽板层曝光。国际申请 PCT/US2004/促使能源环境的可延续发展005186国际公布 WO2004/077154 英进入国家日期专利代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所机构地址代理人蒋世迅

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